本項目結(jié)合半導(dǎo)體平板顯示、IC及光伏等生產(chǎn)廠商對該領(lǐng)域核心設(shè)備中核心單元國產(chǎn)化替代的迫切需求,選擇符合使用技術(shù)要求的國產(chǎn)材料,不再擔(dān)心國外材料供貨不及時或是規(guī)格型號不全,通過自主研發(fā)及與客戶合作開發(fā)的模式,掌握了半導(dǎo)體平板顯示及IC制造核心設(shè)備核心單元的關(guān)鍵技術(shù),技術(shù)水平達到或超過了國外同類產(chǎn)品的技術(shù)水平,對國內(nèi)TFT及IC生產(chǎn)設(shè)備的制造水平以及TFT顯示器件的工藝技術(shù)水平起到了巨大的推動作用。同時,國產(chǎn)替代產(chǎn)品的成本優(yōu)勢和本地化快捷服務(wù)優(yōu)勢,對降低IC、TFT-LCD、OLED顯示器件的生產(chǎn)成本起到了促進作用。打破了國外產(chǎn)品對于國內(nèi)市場的壟斷,有效推動我國半導(dǎo)體液晶產(chǎn)業(yè)的健康快速發(fā)展。
該項目的主要創(chuàng)新點為:1、根據(jù)半導(dǎo)體器件鍍膜設(shè)備的需求,選出符合要求的國產(chǎn)材料,開發(fā)了物理氣相沉積設(shè)備關(guān)鍵部件,實現(xiàn)了部分材料及部件國產(chǎn)化替代。2、研制出了一種直流磁控濺射鍍膜設(shè)備的旋轉(zhuǎn)靶材陰極真空驅(qū)動單元,與國外同類產(chǎn)品相比,具有密封特性好,免維護壽命長的特點。3、對物理氣相沉積(PVD)鍍膜設(shè)備非鍍膜區(qū)域金屬防著板單元進行了表面改造,配套開發(fā)了蒸鍍設(shè)備防附著單元,降低了維護成本。
該項目研發(fā)了一系列具有自主知識產(chǎn)權(quán)的零部件,其中直流磁控濺射鍍膜設(shè)備的旋轉(zhuǎn)靶材陰極真空驅(qū)動單元達到了國內(nèi)領(lǐng)先水平。
本項目已授權(quán)1項發(fā)明專利、66項實用新型、12項軟件著作權(quán)、1項外觀專利;已受理4項發(fā)明、26項實用新型,據(jù)此開發(fā)了面向直流磁控濺射鍍膜設(shè)備的旋轉(zhuǎn)靶材陰極真空驅(qū)動單元、面向物理氣相沉積(PVD)鍍膜設(shè)備非鍍膜區(qū)域金屬防著板單元、面向鍍膜設(shè)備的大尺寸超薄玻璃基材承載裝置單元、面向蒸鍍設(shè)備防附著單元(evaporation & enclosure)、面向真空鍍膜設(shè)備真空門閥裝置(Lock Valve),上機運行穩(wěn)定、可靠性高,成功應(yīng)用于京東方科技集團、TCL華星光電、中國電子集團、惠科股份、信利光學(xué)、柔宇科技、維信諾等,產(chǎn)品經(jīng)過在客戶端運行,性能和國外原廠一樣甚至更高、安全穩(wěn)定,保障了各廠商生產(chǎn)線安全穩(wěn)定運行,得到了用戶的一致好評。
本項目在實現(xiàn)半導(dǎo)體核心裝備國產(chǎn)化過程中,意義重大,經(jīng)濟和社會效益顯著,應(yīng)用前景廣闊。
1.周磊 2.鄭磊 3.周婷婷 4.張航 5.孫楠楠 6.段琳琳 7.竇沛靜 8.丁媛 9.劉濤 10.魏新杰
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評價單位: |
中國民營科技促進會 |
報告編號: |
中促會評字 [2021] 第037號 |
評價日期: |
2021-06-26 |
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組織單位: |
中國民營科技促進會科技成果轉(zhuǎn)化辦公室 |
項目負(fù)責(zé): |
張洪偉 |
成果管理: |
13641060945 |
一、提供的資料齊全,符合評價要求。
二、該項目主要創(chuàng)新點:
1.根據(jù)半導(dǎo)體器件鍍膜設(shè)備的需求,選出符合要求的國產(chǎn)材料,開發(fā)了物理氣相沉積設(shè)備關(guān)鍵部件,實現(xiàn)了部分材料及部件國產(chǎn)化替代。
2.研制出了一種直流磁控濺射鍍膜設(shè)備的旋轉(zhuǎn)靶材陰極真空驅(qū)動單元,與國外同類產(chǎn)品相比,具有密封特性好,免維護壽命長的特點。
3.對物理氣相沉積(PVD)鍍膜設(shè)備非鍍膜區(qū)域金屬防著板單元進行了表面改造,配套開發(fā)了蒸鍍設(shè)備防附著單元,降低了維護成本。
三、該技術(shù)相關(guān)產(chǎn)品通過第三方檢測機構(gòu)檢測,符合標(biāo)準(zhǔn)要求。
四、相關(guān)產(chǎn)品經(jīng)京東方科技集團、TCL華星光電等多家用戶使用,產(chǎn)品評價良好。
五、該項目研發(fā)了一系列具有自主知識產(chǎn)權(quán)的零部件,其中直流磁控濺射鍍膜設(shè)備的旋轉(zhuǎn)靶材陰極真空驅(qū)動單元達到了國內(nèi)領(lǐng)先水平。
本項目在實現(xiàn)半導(dǎo)體核心裝備國產(chǎn)化過程中,意義重大,經(jīng)濟和社會效益顯著,應(yīng)用前景廣闊。
姓名 |
工作單位 |
職稱 |
從事專業(yè) |
裴為華 |
中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 |
正高 | 微光電子 |
劉濟東 |
中電科電子裝備集團有限公司 |
正高 | 電子專用設(shè)備 |
李牧原 |
中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會 |
正高 | 半導(dǎo)體 |
秦 健 |
海軍研究院 |
正高 | 兵器科學(xué)與技術(shù) |
劉四平 |
中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會 |
正高 | 半導(dǎo)體咨詢 |
周 迎 |
中國民營科技促進會 |
正高 | 科技管理 |
王建平 |
普華基礎(chǔ)軟件股份公司 |
正高 | 管理 |
戴小林 |
有研科技集團 |
正高 | 硅晶體生產(chǎn) |
童有好 |
工信部中小企業(yè)促進中心 |
正高 | 中小企業(yè) |